五千年(敝帚自珍)

主题:【原创】中微半导体45纳米蚀刻机 -- 可梦之

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家园 除非不走光学路线

现在好像很多都快到光学极限了,如果要继续往小了做,用光刻的方法就不太行了。

其他的呢,就有E-beam(电子束蚀刻)好像还听到过X-Ray,Ion-Beam之类的。不过这个也有自己的问题,别的不是很清楚,E-Beam就是速度慢,虽然线宽可以很小,但是就是不能量产,不能适应工业生产。

如果真的要搞这个,作为国家策略可以做两手准备,一方面研究传统的光刻,另外也开发一下新的技术。新技术大家都在研究,说不定苹果就砸在哪个山寨上了呢?:-)

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