主题：【原创】中微半导体45纳米蚀刻机 -- 可梦之

上海微电子装备有限公司的光刻机简介：

SSA600/10型步进扫描投影光刻机用于集成电路前道工艺，可满足用户100nm工艺节点的需求。该设备采用高性能193nmArF准分子激光光源，结合大数值孔径投影物镜和离轴照明技术，可实现高分辨率和高工艺稳定性；可变数值孔径和多种照明模式可满足不同光刻分辨率和焦深要求；大曝光视场、快速对准技术和高同步扫描速度，可实现高生产率、高性能掩模对准和硅片对准技术以及高精度工件台掩模台控制精度，可满足高套刻精度要求。

SSA600/10型步进扫描投影光刻机具有以下优良特性：

高性能193nm ArF准分子激光光源

高性能投影物镜系统，最大数值孔径0.75

支持离轴照明等多种分辨率增强技术，最高分辨率100nm

高速全场对准和高速同步扫描曝光实现高产率

高精度掩模对准和硅片对准系统，对不同硅片工艺具有良好的工艺适应性

高精度六自由度掩模台/工件台定位控制系统

高性能、高可靠性、低生产成本(COO)