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主题:【原创】中微半导体45纳米蚀刻机 -- 可梦之

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家园 理论上蚀刻和纳米没有关系

因为蚀刻的时候其实是对整个chip进行处理,只是有些地方有保护,有些没有保护。

但是随着特征尺寸的提高,原来的蚀刻机肯定不符合新流程的要求。这里中微可能是想说他们的可以用在45纳米的制程上。

不是绝对垂直是一个原因,另外一个原因是高速粒子撞击之后难免会侵蚀周围区域。就好像嫦娥什么角度撞机月球,都不太可能撞出一个整齐的深洞出来。现在特征尺寸这么小,很容易蚀刻控制不好被击穿。但是这也不完全是坏处,intel曾经通过控制蚀刻的横向侵蚀,将transister的实际宽度降到特征尺寸的一般左右,从而提高性能。这也体现了制造厂的重要性。AMD和TSMC不太可能这么搞的。

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