主题：【原创】雪夜妖谈-引子 -- 夜如何其

大山猫河友原话是:

28nm和7nm光刻区别主要就是一次曝光和四次曝光吧

我理解是采用多重曝光工艺

你是行家，应该知道28nm和7nm芯片生产工艺差别吧。晶体管结构也从2D上升为3D结构。也就是从MOSFET转换为Finfet工艺。如果采用Finfet工艺，是不可能采用多重曝光工艺。

台积电7nm工艺是采用Finfet工艺，华为的台积电加工的9000和国产的9000s都是Finfet工艺，不是采用传统多重曝光获得。

实际无论哪一家芯片制造商，只要采用Finfet工艺，都有几次不同光刻过程。Finfet工艺同Duv和Euv光刻机无关。这点是我表达不严谨的地方。

目前看，国产7nm芯片成功，更多是实现了Finfet工艺的成熟。