主题：【原创】中微半导体45纳米蚀刻机 -- 可梦之

前身是做asic设计的。design house 好弄，fab难搞。

他们和ＣＨＡＲＴＥＲ的联系应该很多吧？

大学同学在那里当SVP，管CVD，去年卖给SMIC两台后就给AMAT告了。这回跟TSMC是我第二次听说他们卖出东西。这个也算不上什么抄了，毕竟这帮人03年就离开AMAT去搞这摊子了。当初AMAT不管他们，等他们一卖出去才行动，本来就是为了市场目的的。过去这些年半导体技术上没什么革命性的突破，5～6年前的东西按roadmap外延一下也就行了。

当初台湾、韩国人毕竟是在美国公司里面都做到高层了，对于大规模半导体生产了解了才回去做的。实验室里跟线上差别是很大的。

Karl Suss在aligner时代是很强，但现在是stepper的天下，ASML靠浸水占了70%以上的市场。ASML目前最重要的两家供货商是Zeiss和Cymer。

有IBM license 的45nm 逻辑工艺在研发当中。

在新加坡。

http://www.amec-inc.com/about/Corporate_Fact_Sheet.php

楼下的说总部在中国，我不清楚。不过今年2月25日的半导体国际上的报道还称，

另外，amec是在开曼群岛注册的。呵呵。

难道是要做ＴＳＶ吗？这个到确实可以是个方向。技术门槛相对会比较低。

amec是在开曼群岛注册的

让人感觉这个公司好象不是很ＳＥＲＩＯＵＳ，呵呵

多谢老兄的信息

有人说ＡＭＡＴ比较ＭＥＡＮ，不知道是不是因此人老外跳，呵呵

3D现在这么热。

摘自同一篇报道里的话：

SMIC好像也是在那些小岛注册的，主要是为了税收以及外资优惠方面的便利。另外我看到的中文消息都是说总部在上海，跟我同学聊天时她也从来没提过AMEC跟新加坡的关系。当然我也没专门问这个问题。

尼康和佳能和zeiss的镜头，很多是凤凰代工的。

上海微电子装备有限公司的光刻机简介：

SSA600/10型步进扫描投影光刻机用于集成电路前道工艺，可满足用户100nm工艺节点的需求。该设备采用高性能193nmArF准分子激光光源，结合大数值孔径投影物镜和离轴照明技术，可实现高分辨率和高工艺稳定性；可变数值孔径和多种照明模式可满足不同光刻分辨率和焦深要求；大曝光视场、快速对准技术和高同步扫描速度，可实现高生产率、高性能掩模对准和硅片对准技术以及高精度工件台掩模台控制精度，可满足高套刻精度要求。

SSA600/10型步进扫描投影光刻机具有以下优良特性：

高性能193nm ArF准分子激光光源

高性能投影物镜系统，最大数值孔径0.75

支持离轴照明等多种分辨率增强技术，最高分辨率100nm

高速全场对准和高速同步扫描曝光实现高产率

高精度掩模对准和硅片对准系统，对不同硅片工艺具有良好的工艺适应性

高精度六自由度掩模台/工件台定位控制系统

高性能、高可靠性、低生产成本(COO)

什么狗屁专利，中国人不鸟它