五千年(敝帚自珍)

主题:【原创】中微半导体45纳米蚀刻机 -- 可梦之

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家园 我估计光刻也就这样了。

下一代的EUV光刻系统至今问题多多,无法投入生产。intel的22nm技术将仍然使用现在的193nm光刻技术。也许16nm的时候,能够用EUV,但是16nm的FET能不能做得出来,估计是够呛了。

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