主题：【原创】雪夜妖谈-引子 -- 夜如何其
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一次曝光是设备指标要求，多次曝光是无奈。
ASML的DUV光刻机1980，2000，2050，指标上一次曝光分别对应是28nm、14nm和7nm。1980、2000可制造7nm是通过多次曝光获得，但晶体管密度、成本差距很大。
光刻机是集成系统，分别是光源、操作平台、光柵、光学滤镜。都影响光刻机指标。还有一点更重要是制造工艺差别，也就是工艺参数积累。
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🙂28nm和7nm光刻区别主要就是一次曝光和四次曝光吧 11 大山猫 字85 2023-09-07 12:32:56
🙂28 nm 也不可能是一次曝光吧 7 fakeone 字262 2023-09-08 04:33:59
🙂28nm也是标28nm 6 大山猫 字23 2023-09-08 17:44:07
🙂不是
🙂你这说的完全错误 5 moletronic 字66 2023-09-08 14:34:16
🙂你这帽子有点大 6 南门桥 字757 2023-09-11 00:09:36
🙂7nm一次曝光能做到？ 11 大山猫 字196 2023-09-08 09:44:15
🙂不大可能 5 fakeone 字234 2023-09-08 18:44:08