主题:工业和信息化部官宣:新一代DUV -- dudu8972
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对应着工艺大约是45nm。但是如果用上基于软件的衍射修正,可以到28nm,如果用上多重曝光,最高到14nm也是有可能的。
不过对28nm,一般不会如此大动干戈。
中国目前公布的东西,敌人一定会拆解其中的每一个部件,有可能的话制裁其中的每一个供应商以及供应商的供应商,因此此时公布的光刻机,一定是敌人无可奈何的,挡无可挡的。
两岸猿声啼不住,轻舟已过万重山。
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🙂似乎回错地方了,删了 dudu8972 字0 2024-09-17 01:06:08
🙂上海微电子公开“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利 5 dudu8972 字213 2024-09-16 08:43:13
🙂【讨论】套刻精度是什么意思 1 伊贺双刀流 字32 2024-09-15 11:15:41
🙂这个是套刻精度
🙂有猜测说,这个公布的全国产 5 慧诚 字127 2024-09-17 03:30:18
🙂三个一代是传统技能了 审度 字210 2024-09-17 18:31:10
🙂28nm是个节点,平面工艺尽头,再往下是finfet 5 鹰扬龙骧 字93 2024-09-16 22:51:43
🙂前提是产能和良率能达到量产的标准 3 zju 字114 2024-09-16 23:51:22